Introduction du fluorure d'aluminium
Fluorure d'aluminium
Formule moléculaire:AlF3
Numéro ONU :1759
Synonymes:fluorure d'aluminium, trifluorure d'aluminium, trifluoroalumane, AlF3, trifluoroaluminium
Numero CAS:7784-18-1
Masse moléculaire:83,97
Description générale
Le fluorure d'aluminium se présente sous forme de poudre ou de granulés blancs inodores. Plus dense que l'eau. Solubilité dans l'eau à 25°C est égal à 0,559 g/100 ml.
Le trifluorure d'aluminium est une entité de coordination de l'aluminium.
FLUORURE D'ALUMINIUM POUR REVÊTEMENT OPTIQUE
Les composés fluorés sont utilisés dans les revêtements pour les régions UV à IR moyen. Ils fournissent les indices de réfraction les plus bas et sont donc des composants essentiels des revêtements antireflet. Les films de fluorure présentent des bandes d'absorption dans les régions IR 2,8-3,2 µm et 6,0-7,4 µm à des profondeurs variables, selon le composé et la méthode et les paramètres de dépôt. Des températures de substrat élevées, E-beam et IAD sont des méthodes qui réduisent les profondeurs des absorptions.
Le fluorure d'aluminium, AlF3, est un matériau bien connu qui a déjà été utilisé comme matériau de revêtement lorsqu'un faible indice était requis.* Il n'est pas affecté par l'eau et a une bonne résistance mécanique.
Pourquoi l'AlF3 est-il appelé fluorure d'aluminium ?
Parce que c'est une simple substance inorganique, "tri" est superflu car nous savons que la valence de l'aluminium est (presque toujours) 3+ et donc nous savons qu'il y aura trois anions chlorure sans même avoir à regarder sa formule.
A quoi sert le fluorure d'aluminium ?
Le fluorure d'aluminium est un additif important pour la production d'aluminium par électrolyse. Avec la cryolite, il abaisse le point de fusion à moins de 1000°C et augmente la conductivité de la solution. C'est dans ce sel fondu que l'oxyde d'aluminium est dissous puis électrolysé pour donner du métal Al en vrac.
Comment dissoudre le fluorure d'aluminium ?
L'acide fluorhydrique est connu depuis longtemps pour être efficace pour dissoudre le fluorure d'aluminium. Malheureusement, l'acide fluorhydrique attaque également fortement l'aluminium dans l'aluminium sous-jacent, l'aluminium anodisé ou la surface en céramique pulvérisée. L'acide fluorhydrique endommage ainsi les surfaces fabriquées à partir de ces matériaux.
Les revêtements AlF3 ont un indice très faible par rapport aux autres fluorures. Une perte de ~2% de transmission à des longueurs d'onde proches de 400 nm est attribuée à une déficience partielle de la teneur en fluor causée par la décomposition dans l'évaporation du faisceau E. Cet épuisement est aggravé par des processus à haute énergie, tels que le dépôt assisté par ions (IAD). L'effet est minime avec l'évaporation chauffée par résistance. Étant donné que la couche de film évaporé d'essai avait une épaisseur d'environ 1500 nm, cette déficience serait indétectable dans les UV, où les applications nécessitent des couches d'un dixième de cette épaisseur. L'AlF3 est prometteur pour l'utilisation des infrarouges, bien que son absorption dans la région des 10 µm puisse être un peu plus élevée que souhaitable pour les applications à haute énergie. La durabilité et l'adhérence des films AlF3 se sont avérées excellentes. Dans l'UV, l'AlF3 trouve des applications dans les revêtements laser à haute énergie à des longueurs d'onde inférieures à 250 nm.
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